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ASTRA TECH Implant System™

ASTRA TECH Implant System BioManagement Complex™

Image ASTRA TECH Implant System BioManagement ComplexL'esthétique fait partie intégrante de l’ASTRA TECH Implant System™. Nous travaillons en harmonie avec la nature pour faciliter le processus de cicatrisation. C'est pourquoi, vos patients et vous-même, pourrez toujours compter sur l’ASTRA TECH Implant System™, non seulement aujourd'hui, mais aussi demain et pour très longtemps.

Un système implantaire couronné de succès ne peut dépendre que d'un seul et unique concept. Comme dans la nature, plusieurs caractéristiques interdépendantes doivent être réunies.

OsseoSpeed™ – Accélération de la formation et de la cicatrisation osseuse 

S'appuyant sur le succès bien établi du TiOblast™, OsseoSpeed™ est le premier implant au monde dont la surface en titane chimiquement modifiée présente une topographie exceptionnelle à l'échelle nanométrique pour stimuler la cicatrisation osseuse initiale et accélérer le processus de formation osseuse.

L'association de la microrugosité de la surface en titane et de son traitement au fluor augmente la formation d'os, et renforce la liaison os/ implant. Avec MicroThread™ au col de l'implant, OsseoSpeed met en oeuvre une véritable force de croissance qui va améliorer la fiabilité et l'efficacité du traitement. Les bénéfices cliniques de la surface OsseoSpeed sont prouvés et particulièrement bien documentés.

MicroThread™ – Stimulation biomécanique de l'os

Le col de l’implant est muni du MicroThread™ – microfiletage qui permet une distribution optimale des charges et réduit la valeur des contraintes. Cette conception repose sur la compréhension totale de la physiologie de l’os, essentielle pour les implants dentaires. L’os étant, par essence, destiné à supporter les charges, les implants dentaires doivent être conçus pour assurer une stimulation mécanique de l’os environnant, sachant que le point critique de l’interface os/implant est situé au niveau de l’os marginal cortical où apparaissent les pics de contrainte.

Conical Seal Design™ – Ajustage rigide et stable

Le Conical Seal Design™ est une connexion conique située sous le niveau de l’os marginal pour transférer la charge au plus profond de l’os. Par rapport aux connexions coniques situées au-dessus du niveau marginal de l’os et par rapport aux connexions planes, le Conical Seal Design™ réduit les pics de contrainte en protégeant l’os marginal. Il scelle également l’intérieur de l’implant par rapport aux tissus environnants, réduisant ainsi au minimum les micro-mouvements et les micro-infiltrations. Le Conical Seal Design™ simplifie la maintenance et assure la fiabilité en toutes circonstances. De plus, l’ajustage étanche parfait entre l’implant et le pilier grâce au Conical Seal Design™, permet une mise en place simple et rapide dans l’implant. Le pilier est auto-guidant et la mise en place, simple et rapide, est atraumatique et élimine tout risque de lésion osseuse.

Connective Contour™ – Optimisation de l’espace biologique

Le Connective Contour™ est le contour exceptionnel créé par la connexion du pilier dans l’implant. Ce contour donne un plus grand volume et une plus importante zone de contact avec le tissu conjonctif qui s’intègre avec la partie transmuqueuse de l’implant, isolant et protégeant l’os marginal.

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